為什麼中國生產不了光刻機

因為在研製光刻機上技術難度大，研發資金投入巨大，以至於佳能和索尼都虧損嚴重，中國也在此方面有長期投入，目前我們還在追趕，量產的是上海微電子的90納米的，離ASML的10納米的差距很大。

拓展知識：光刻機又名:掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

在硅片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時"複製"到硅片上的過程。曝光機是生產大規模集成電路的核心設備，製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎，世界上只有少數廠家掌握。因此曝光機價格昂貴。