光刻機技術是誰發明的

光刻機又名掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造芯片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到硅片上。

在早期階段其功能簡單，而且使用的材料也是較為粗糙的，通過材料光照實驗發現能夠複製一種刻着在油紙上的印痕，而在其出現在玻璃片上後，經過一段時間的日曬，其透光部分的瀝青就會變得很硬，但在不透光部分則可以用松香和植物油將其洗掉。

儘管光刻機發明的時間較早，不過在其發明之後，並沒有在各行業領域之中被使用，直到第二次世界大戰時，該技術應用於印刷電路板，所使用的材料和早期發明時使用的材料也已經有了極大區別。

在塑料板上通過銅線路製作，讓電路板得以普及，短期之內就成為了眾多電子設備領域中最為關鍵的材料之一。

光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸範圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。