热氧化物在硅片制造的四种用途 生活 关注:2.91W次 1、金属层间绝缘阻挡层:用做金属连线间的保护层。2、注入屏蔽氧化层:用于减小注入够到和损伤。3、势氧化层:做氧化硅缓冲层以减小应力。4、掺杂阻挡层:作为掺杂或注入杂质到硅片中的掩蔽材料。 标签: 硅片 氧化物 文章版权属于文章作者所有,转载请注明 https://wzkpw.com/zh-cn/sh/l0l1z2.html